AYUNINGTIAS, ANDI PUTRI (2013) PENGARUH ELEKTROLIT Na2SO4 dan NaCl TERHADAP RECOVERY LOGAM Cu DENGAN KOMBINASI TRANSPOR MEMBRAN CAIR DAN ELEKTROPLATING MENGGUNAKAN ASAM p-t-BUTILKALIKS[4]ARENA-TETRAKARBOKSILAT SEBAGAI ION CARRIER. Skripsi thesis, Universitas Hasanuddin.
andiputria-1374-1-13-andi-s 1-2.pdf
Download (344kB)
andiputria-1374-1-13-andi-s COVER1.jpg
Download (258kB) | Preview
andiputria-1374-1-13-andi-s DAPUS-LAM.pdf
Download (274kB)
andiputria-1374-1-13-andi-s.pdf
Restricted to Registered users only
Download (1MB)
Abstract (Abstrak)
Penelitian tentang pengaruh elektrolit Na2SO4 dan NaCl terhadap recovery logam
Cu telah dilakukan dengan kombinasi transpor membran cair dan elektroplating
menggunakan asam p-t-butilkaliks[4]arena-tetrakarboksilat sebagai pengemban
ion. Penelitian ini bertujuan untuk menentukan pengaruh konsentrasi elektrolit
Na2SO4 dan NaCl, konsentrasi ion logam, waktu, jenis elektrolit serta menentukan
kondisi optimum dan efisiensi pengendapan Cu. Hasil penelitian menunjukkan
bahwa konsentrasi elektrolit, konsentrasi ion Cu2+ di fasa sumber, waktu dan jenis
elektrolit sangat berpengaruh terhadap proses recovery logam Cu. Kondisi
optimum recovery Cu untuk elektrolit Na2SO4 dicapai pada konsentrasi
0,5% untuk konsentrasi ion Cu2+ 0,01 M, konsentrasi 1,0% untuk konsentrasi ion
Cu2+ 0,05 M masing-masing dengan waktu transpor 120 menit. Sedangkan
konsentrasi ion Cu2+ 0,10 M dicapai pada konsentrasi 2,0% dengan waktu
trasnpor 100 menit. Sedangkan untuk elektrolit NaCl dicapai pada konsentrasi
0,05% untuk konsentrasi ion Cu2+ 0,01 M dengan waktu transpor 120 menit dan
konsentrasi ion Cu2+ 0,05 M dan 0,10 M masing-masing dicapai pada konsentrasi
0,10% dan 0,01% dengan waktu transpor 120 menit. Efisiensi pengendapan
tertinggi pada kondisi optimum sebesar 31,5% untuk elektrolit NaCl dan 21,0%
untuk elektrolit Na2SO4.
Kata kunci: asam p-t-butilkaliks[4]arena-tetrakarboksilat, Cu, elektroplating,
transpor membran cair, recovery
Item Type: | Thesis (Skripsi) |
---|---|
Subjects: | T Technology > TP Chemical technology |
Depositing User: | - Nurhasnah |
Date Deposited: | 04 Nov 2021 04:36 |
Last Modified: | 04 Nov 2021 04:36 |
URI: | http://repository.unhas.ac.id:443/id/eprint/8818 |